Pam Mae Argraffu Silicôn yn Edrych yn Rhy Sglein? Sut i Greu Gorffeniad Matte
Gall argraffu sgrin silicon gynhyrchu patrymau tecstilau llyfn, elastig a thri dimensiwn, ond ni ddylai fod gan bob dyluniad arwyneb sgleiniog.
Ar gyfer llawer o ddillad, cynhyrchion dillad chwaraeon, pants, legins, dillad isaf ac ategolion tecstilau, efallai y bydd ymddangosiad meddalach a llai adlewyrchol yn cyd-fynd yn well â'r dyluniad arfaethedig.
Pan fydd print silicon wedi'i gwblhau yn edrych yn fwy sgleiniog na'r angen, un ateb ymarferol yw argraffu sgrin cot uchaf silicon matte clir dros y patrwm silicon gorffenedig. Mae'r deunydd matte yn cael ei ddefnyddio fel arfer fel yr haen arwyneb printiedig terfynol yn hytrach nag fel y prif liw neu uchder-haen adeiladu.
Gall strwythur nodweddiadol fod yn:
Ffabrig → Silicôn Sylfaen → Silicôn Lliw / Addurnol / Dwysedd Uchel → Côt Top Silicôn Matte Clir → Gwellhad Terfynol
Am y modelau sydd ar gael, systemau catalydd ac opsiynau halltu, gweler Côt Top Silicôn Matte Clir Ar gyfer Argraffu Sgrin Tecstilau.
Pam y gall Printiau Silicôn Edrych yn Sglein
Mae ymddangosiad terfynol print silicon yn cael ei effeithio gan y ffurfiad deunydd a chan y ffordd y mae'r wyneb printiedig yn cael ei adeiladu.
Mae ffactorau cyffredin yn cynnwys:
- Ffurfio silicon
- Llyfnder wyneb
- Trwch argraffu
- Rhwyll sgrin a thrwch stensil
- Nifer y tocynnau argraffu
- Fflach{0}}amodau sychu ac halltu terfynol
- Strwythur patrwm sylfaenol
- Arwyneb terfynol-deunydd gorffen
Gall arwyneb llyfn silicon adlewyrchu mwy o olau ac felly ymddangos yn sgleiniog. Gall hyn fod yn ddymunol ar gyfer rhai dyluniadau ffasiwn, ond efallai y bydd angen gorffeniad meddalach neu fwy technegol yr olwg ar brosiect arall.
Sut mae Côt Top Silicôn Matte Clir yn Newid Yr Arwyneb
Mae cot uchaf silicon matte clir wedi'i argraffu â sgrin dros y dyluniad silicon cydnaws gorffenedig. Ei brif bwrpas yw newid ymddangosiad terfynol yr arwyneb tra'n caniatáu i'r lliw gwaelodol, y llythrennau neu'r strwythur tri dimensiwn aros yn weladwy.
Gellir ei werthuso ar gyfer:
- Arwynebau matte tryloyw
- Logos silicon llachar isel
- Effeithiau gweledol cyffwrdd -meddal
- Patrymau lliw matte
- Logos dwysedd uchel Matte
- Graffeg -dimensiynol Matte
- Patrymau tecstilau addurniadol
Mae enghreifftiau yn cynnwys:
- Logo silicon du → Côt uchaf matte clir → Logo silicon du Matte
- Llythrennu wedi'i godi'n las → Côt uchaf matte clir → Llythrennu glas gyda-gwyneb llachar
- Patrwm silicon aml-liw → Côt uchaf matte clir → Dyluniad aml-liw gydag ymddangosiad matte mwy unffurf
I gael dilyniant print lliw manwl, darllenwch Sut i Gymhwyso Silicôn Matte Clir Dros Argraffu Silicôn Lliw.
Nid yw Silicôn Matte yn Gyfyngedig i Argraffu Dwysedd Uchel
Er bod silicon matte clir yn cael ei ddefnyddio'n aml dros logos uchel a strwythurau dwysedd uchel, gellir ei werthuso hefyd dros ddyluniadau argraffu sgrin silicon cydnaws eraill.
Gall y rhain gynnwys:
- Logos silicon gwastad
- Printiau silicon lliw
- Llythrennu a nodau masnach
- Graffeg addurniadol
- Patrymau ailadrodd
- Wedi codi -strwythurau tri dimensiwn
- Patrymau silicon arddull gafael neu wead
Mae'r defnydd ehangach hwn yn bwysig oherwydd bod y silicon matte yn haen gorffen. Gall y dyluniad silicon gwaelodol fod yn wastad, mewn lliw, wedi'i godi neu'n weadog.
Am-enghreifftiau sy'n canolbwyntio ar ddilledyn, gwelerArgraffu Silicôn Matte Clir ar gyfer Logos Dillad, Patrymau a Graffeg Tecstilau.
Cymwysiadau Tecstilau Nodweddiadol
Gellir gwerthuso gorffeniad wyneb matte clir ar gyfer ystod eang o gynhyrchion tecstilau cydnaws, gan gynnwys:
- T{0}}crysau
- Hwdis a chrysau chwys
- Siacedi
- Dillad chwaraeon a dillad egnïol
- Pants a legins
- Dillad isaf a ioga
- Sanau a menig
- Bandiau elastig a webin
- Labeli tecstilau ac ategolion ffabrig
Ar gyfer dillad chwaraeon lle mae angen -ymddangosiad technegol llai llachar, gwelerArgraffu Silicôn Matte Clir ar gyfer Dillad Chwaraeon a Dillad Actif.
Dylid profi'r broses wirioneddol bob amser yn ôl y swbstrad, y system silicon sylfaenol a defnydd terfynol y cynnyrch.
Faint o docyn argraffu matte sydd ei angen?
Yn aml, gellir datblygu arwyneb matte safonol o oddeutu dau docyn argraffu sgrin, ond dylid cadarnhau'r nifer gwirioneddol trwy brofion cynhyrchu.
Mae'r sylw gofynnol yn dibynnu ar:
- Rhwyll sgrin
- Trwch stensil
- Gludedd silicôn
- Dyfnder patrwm
- Squeegee pwysau
- Geometreg wyneb
- Teimlad llaw gofynnol
- Angenrheidiol unffurfiaeth matte
Mae'n bosibl y bydd angen amodau gwahanol i logos fflat ar strwythurau dyrchafedig dwfn neu gymhleth. DarllenFaint o docynnau argraffu sydd eu hangen ar gyfer côt uchaf silicon matte? am ganllaw proses manylach.
Gwres{0}}Iacháu a Hunan-Systemau Sychu
Mae gwahanol ffatrïoedd yn defnyddio gwahanol lifau gwaith sychu a halltu. Gellir ystyried gwres-silicôn matte halltu lle mae sychwyr platen,-peiriannau halltu fflach neu ffyrnau ar gael. Gellir ystyried systemau hunan-sychu lle mae angen llif gwaith halltu tymheredd ystafell.
Dylid dewis y system gywir yn ôl y model silicon matte, catalydd, amodau gweithdy a dull cynhyrchu.
Am ganllaw dewis ochr-wrth-ochr, gweler Gwres-Cure vs Self-Sychu Matte Silicone ar gyfer Argraffu Sgrin Tecstilau.
Profwch y Strwythur Argraffu Cyflawn
Peidiwch â gwerthuso'r silicon matte fel haen ynysig. Mae'r canlyniad gorffenedig yn dibynnu ar y strwythur argraffu cyflawn.
Cyn cynhyrchu swmp, gwerthuswch:
- Tecstilau gwirioneddol
- Inc silicon gwaelodol
- Model silicon matte
- System gatalydd
- Tocynnau argraffu
- Sychu fflach
- halltu terfynol
- Ymestyn neu blygu
- Golchi a sgraffinio
- Ymddangosiad wyneb terfynol
Os ydych chi'n datblygu print tecstilau silicon matte, anfonwch eich ffabrig, system silicon bresennol, gwaith celf, gorffeniad gofynnol a dull halltu atom ar gyfer gwerthuso sampl.