Faint o docynnau argraffu sydd eu hangen ar gyfer côt uchaf silicon sgleiniog?
Fel arfer cymhwysir cot uchaf silicon sgleiniog ar ôl i'r prif ddyluniad silicon gael ei gwblhau.
Un o'r cwestiynau ymarferol wrth ddatblygu sampl yw sawl gwaith y dylid argraffu sgrin ar y silicon sgleiniog.
Ar gyfer llawer o ddyluniadau, gellir gwerthuso dau gerdyn argraffu neu fwy fel man cychwyn ymarferol. Fodd bynnag, nid oes un cyfrif pasio sy'n gywir ar gyfer pob logo, ffabrig neu strwythur silicon.
Am fodelau cynnyrch sydd ar gael a systemau halltu, gwelerCôt Top Silicôn Sglein Ar gyfer Argraffu Sgrin Tecstilau.
Pam Mae Cwmpas Arwyneb yn Bwysig
Mae angen i'r haen sgleiniog orchuddio'r wyneb silicon bwriedig yn gyson.
Os yw trosglwyddo deunydd yn annigonol neu'n anwastad, gall y print gorffenedig ddangos gwahaniaethau mewn adlewyrchiad arwyneb rhwng gwahanol ardaloedd.
Mae hyn yn arbennig o bwysig ar gyfer logos mawr, graffeg solet, llythrennu uwch, patrymau dimensiwn trwchus a dyluniadau gydag uchder arwyneb gwahanol.
Dylai'r amcan cynhyrchu fod yn arwyneb sgleiniog cyson yn hytrach na dim ond cymhwyso'r trwch mwyaf posibl.
Pryd y Gellir Gwerthuso Dau Docyn
Gellir profi dau docyn fel man cychwyn ar gyfer logos dilledyn cyffredin, printiau silicon lliw, llythrennau, graffeg addurniadol a strwythurau silicon wedi'u codi'n gymedrol.
Dylai pob haen argraffedig gael ei sychu neu ei sefydlogi'n ddigonol cyn cymhwyso'r haen nesaf.
Mae'r union gyflwr sychu yn dibynnu ar b'un a yw system silicon halltu neu aer sych yn cael ei defnyddio.
Pryd y Gall fod Angen Tocynnau Ychwanegol
Gellir gwerthuso mwy na dau docyn pan fo'n anodd gorchuddio'r strwythur silicon sylfaenol yn unffurf.
Mae enghreifftiau'n cynnwys patrymau uwch dwfn, graffeg tri dimensiwn cymhleth, uchder arwynebau afreolaidd a chynlluniau sy'n cynnwys ardaloedd cilfachog neu grwm.
Fodd bynnag, ni ddylid ystyried deunydd ychwanegol yn well yn awtomatig.
Gall cynyddu -trwch cot uchaf newid teimlad llaw, diffiniad ymyl, hyblygrwydd ac ymddygiad sychu'r dyluniad gorffenedig. Felly, dylai profion sampl ganolbwyntio ar y broses leiaf sydd ei hangen i gyflawni'r arwyneb sgleiniog a ddymunir.
Gosodiad Sgrin yn Newid Trosglwyddo Deunydd
Mae'r gosodiad cynhyrchu yn dylanwadu ar faint o silicon sgleiniog a drosglwyddir yn ystod -pas argraffu un sgrin.
Gall dewis rhwyll, trwch stensil, gludedd silicon, pwysedd squeegee, ongl argraffu a chyflymder argraffu i gyd effeithio ar ddyddodiad deunydd.
Mae hyn yn golygu efallai na fydd "dau docyn" gydag un gosodiad sgrin yn cynhyrchu'n union yr un canlyniad â dau docyn gyda sgrin arall.
Dylid cofnodi paramedrau cynhyrchu yn ystod datblygiad sampl fel y gellir atgynhyrchu'r un ymddangosiad yn fwy cyson yn ystod swmp-gynhyrchu.
Gwerthusiad ar Wahân Anghenion Silicôn Codedig
Mae logo silicon gwastad yn cyflwyno wyneb cymharol syml.
Gall strwythur tri dimensiwn uchel gynnwys ymylon uchel, manylion bach, ardaloedd crwm a newidiadau mewn uchder. Mae'r nodweddion hyn yn effeithio ar sut mae'r cot uchaf sgleiniog yn trosglwyddo ar draws y dyluniad.
Am strwythurau argraffu manwl wedi'u codi a lliw, gwSut i Gymhwyso Silicôn Sglein Clir Dros Argraffu Silicôn Wedi'i Lliwio a'i Godi.
Sych Rhwng Haenau
Pan fydd haenau sgleiniog lluosog yn cael eu cymhwyso, dylai'r haen flaenorol gael ei sefydlogi'n ddigonol cyn argraffu'r un nesaf.
Gyda system halltu gwres, gellir sychu canolradd yn ôl yr offer cynhyrchu cyn y tocyn nesaf.
Gyda-system sych aer, dylid caniatáu digon o amser sychu yn unol â'r fformiwleiddiad a'r amodau gwaith a ddewiswyd.
Am dewis system, gwGwres-Cure vs Air-Sychwch Silicôn Sglein ar gyfer Argraffu Sgrin Tecstilau.
Archwiliwch y sglein o dan oleuadau gwahanol
Dylid gwerthuso arwyneb sgleiniog o fwy nag un ongl.
Gall goleuadau uniongyrchol, goleuadau ochr a goleuadau gweithdy arferol ddatgelu gwahaniaethau mewn sglein neu orchudd arwyneb nad yw efallai'n amlwg o un safle gwylio.
Felly dylai'r cyfrif pasio terfynol gael ei bennu gan y gofyniad gweledol gwirioneddol a'r strwythur cynhyrchu.
Am-enghreifftiau penodol o ddilledyn, darllenwchArgraffu Silicôn Sglein ar gyfer Logos Dillad, Patrymau a Graffeg Tecstilau.